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半导体行业解决方案
主要用于化学气相沉积(CVD)、刻蚀(Etch)、离子注入中,高效净化H2、SiH₄、HCl等有毒、有害或易燃易爆的气体,控压精度需达±0.5Torr以匹配精密设备,同时延长保养周期。
PWS1500等离子水洗尾气处理装置
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