摆阀
应用于高真空至超高真空场景,如半导体刻蚀、粒子加速器等系统。可适配严苛腐蚀性介质与空间受限环境
联系人: Dylan
滑动鼠标了解更多
产品描述
应用范围
应用于高真空至超高真空场景,如半导体刻蚀、粒子加速器等系统。可适配严苛腐蚀性介质与空间受限环境
产品特点
· 高频快速启闭
· 长寿命
· 低维护
· 摆动路径短
· 低惯性冲击
· 精确的压力控制
相关产品
相关产品
产品咨询
注意：请留下您的联系方式，我们的专业人员会尽快与您联系！
Dylan
zhangying@jsjd.cc
15088688121
地址：浙江省杭州市临平区顺达路500号